네덜란드의 반도체 장비 제조업체 ASML이 삼성전자와 손잡고 국내에 1조 원을 투자해 첨단 반도체 미세 공정 기술을 개발하는 연구 시설을 건설할 예정이다.
이 연구 시설은 차세대 극자외선(EUV) 기반 초미세 공정 개발을 목표로 하는 '차세대 반도체 제조 기술 R&D 센터'로, ASML과 삼성전자는 이를 위한 양해각서(MOU)를 12일(현지시간) 체결했다.
이번 협약은 ASML이 해외에서 반도체 제조 공정 개발을 위한 R&D 센터를 세우는 첫 사례로, ASML은 반도체 제조에 필수적인 EUV 노광장비를 세계적으로 독점 공급하는 기업으로 알려져 있다. 또한, ASML은 SK하이닉스와 'EUV용 수소 가스 재활용 기술 개발 MOU'도 체결했다. 이 기술은 EUV 노광장비 내부의 수소를 재활용하는 것으로 전력 사용량을 20% 줄여 연간 약 165억 원의 비용 절감 효과가 예상된다.
한편, 한국과 네덜란드는 오는 2024년부터 2028년까지 5년 간 약 500명의 반도체 전문 인력을 공동으로 양성할 계획이다. 이를 위해 내년 2월부터 양국에서 선발된 반도체 전공 대학원생과 기업 연구진을 대상으로 네덜란드에서 첫 번째 아카데미를 개최할 예정이다.
이번 네덜란드와의 반도체 동맹 및 윤석열 대통령의 방문을 통해, 한국은 글로벌 공급망 다변화를 이루고 우수한 기술 인력을 확보할 수 있는 기회를 마련하였다. 네덜란드 ASML은 반도체 초미세 공정에 필수적인 EUV 노광장비를 독점 공급하는 기업으로, 이번 R&D 센터와 교육 아카데미를 통해 한국의 기술 인재들이 더욱 발전되고 강화될 것으로 기대된다.
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